實(shí)驗(yàn)室平臺(tái)
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測(cè)年及原位微量線(xiàn)掃、面掃分析
實(shí)驗(yàn)室擁有三套193nm激光剝蝕系統(tǒng)，其中兩臺(tái)與電感耦合等離子體質(zhì)譜儀聯(lián)用（一臺(tái)耶拿PQ MS、一臺(tái)賽默飛element 2、一臺(tái)安捷倫7500），可進(jìn)行鋯石、斜鋯石、獨(dú)居石、磷灰石、榍石、碳酸鹽樣品等U-Pb年齡測(cè)定；同時(shí)，本套儀器也可用于硅酸鹽礦物、碳酸鹽礦物、硫化物等原位元素含量測(cè)定以及線(xiàn)掃和面掃分析。原位元素含量測(cè)試目前已經(jīng)運(yùn)用于巖石、礦物、石筍、考古文物、生物切片等。
測(cè)試項(xiàng)目
測(cè)試對(duì)象
分析方法
使用儀器
樣品要求
U-Pb年齡
鋯石、斜鋯石、獨(dú)居石、磷灰石、榍石等
LA-ICP-MS 微區(qū)原位分析
RESOlution 193 nm激光剝蝕系統(tǒng)+Jena PQMS/Agilent 7500
礦物靶或者無(wú)蓋玻片的薄片等
原位元素
硅酸鹽礦物、硫化物、碳酸鹽等
LA-ICP-MS 微區(qū)原位分析
RESOlution 193 nm激光剝蝕系統(tǒng)+Jena PQMS/Agilent 7500
無(wú)蓋玻片的薄片，一定規(guī)格的原巖
原位元素線(xiàn)掃、面掃
硅酸鹽礦物、硫化物、碳酸鹽等
LA-ICP-MS 微區(qū)原位分析
RESOlution 193 nm激光剝蝕系統(tǒng)+Jena PQMS/Agilent 7500
無(wú)蓋玻片的薄片，一定規(guī)格的原巖
公司可提供對(duì)應(yīng)的前處理，進(jìn)行巖石中的單礦物挑選、單礦物制靶照相、巖石切片等。
最新推出：
測(cè)試項(xiàng)目
測(cè)試對(duì)象
分析方法
使用儀器
碳酸鹽U-Pb定年
碳酸鹽礦物
LA-(HR)-ICP-MS 微區(qū)原位分析
RESOlution 193nm激光剝蝕系統(tǒng)+高分辨電感耦合等離子體質(zhì)譜儀 Element 2
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